Eisbergtechnik beschreibt ein Verfahren zur Herstellung von Dickkupferleiterplatten, ab etwa 200
µm Kupferdicke. Bei der Eisbergtechnik wird eine
Kupferfolie der genannten Stärke laminiert, belichtet, abentwickelt und die Leiterbahnstrukturen (spiegleverkehrt) vorgeätzt. Anschließend werden diese auf der einen Seite strukturierten
Kupferfolien zunächst mit
Fülldruck versehen, um die Zwischenräume eben zu machen). Dann werden die Folien mit dieser Seite nach unten auf einen Träger aufgeklebt/verpresst. Bei zweiseitigen
Platinen wird der gleiche Prozess noch einmal für die andere Seite durchgeführt. Das Resultat ist dann eine Standardleiterplatte, deren
Kupferkaschierung unterschiedlich dick ist. Dies ermöglicht nun das detailliertere
Ätzen von den
Strukturen gemäß dem geplant Leiterbild. Da insbesondere das
Unterätzen von dicken Leiterbahnen ein Problem bei Dickkupferleiterplatten darstellt, wird hier durch das Einbinden des Dickkupfers in den Träger das abzuätzende
Kupfer begrenzt. Die entstehenden
Strukturen sind somit zu einem Teil im Basisträger vergraben und zum anderen Teil stehen sie aus der
Platine heraus. Dieses Erscheinungsbild hat dem Prozess den Namen gegeben: Eisbergtechnik, da
Kupferstrukturen "unter der Oberfläche liegen und nur die "(Eisberg) Spitze" herausguckt".